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  金屬冶煉、軋制人員
職業(yè)描述:硬質(zhì)合金生產(chǎn)人員
    操作硬質(zhì)合金專(zhuān)用設(shè)備,用難熔金屬化合物和黏結(jié)金屬粉末,制取合金制品的人員。……
職業(yè)描述:碳素制品生產(chǎn)人員
    將焦炭、煤、瀝青等原料制成碳素制品的人員。……
職業(yè)描述:鑄鐵管人員
    操作連續(xù)、離心鑄管系統(tǒng)設(shè)備,將鐵水澆鑄成鑄鐵管的人員。……
職業(yè)描述:金屬軋制人員
    操作軋制、拉拔等設(shè)備,對(duì)金屬錠、坯進(jìn)行軋制、拉拔、擠壓及處理加工的人員。……
化學(xué)機(jī)械拋光中的硅片夾持技術(shù)
    集成電路(IC)制造是電子信息產(chǎn)業(yè)的核心,是推動(dòng)國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)信息化發(fā)展最主要的高新技術(shù)之一。發(fā)達(dá)國(guó)家國(guó)民經(jīng)濟(jì)總產(chǎn)值增長(zhǎng)部分的65%與IC工業(yè)相關(guān),而全球90%以上的IC都要采用硅……
米CMOS器件中超淺結(jié)離子摻雜新技術(shù)
    近幾年來(lái),IC芯片設(shè)計(jì)、芯片制造、測(cè)試和封裝技術(shù)都取得了長(zhǎng)足的進(jìn)展,整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的各個(gè)環(huán)節(jié)都在配套發(fā)展。“中國(guó)芯”與“外國(guó)芯”制造水平的差距正在縮短。盡管芯片特征尺寸0.25~0.1……
重?fù)焦枰r底材料中氧沉淀研究進(jìn)展
    器件性能的提高,需要器件工藝的改善,另外還要有基礎(chǔ)材料質(zhì)量的保證。材料的發(fā)展更能促進(jìn)器件發(fā)展的飛躍,而材料的性能又取決于其內(nèi)部結(jié)構(gòu)。半導(dǎo)體硅材料以豐富的資源、優(yōu)質(zhì)的特性、日臻完善的……
半導(dǎo)體硅片金屬微觀污染機(jī)理研究進(jìn)展
    隨著ULSI技術(shù)的不斷向前發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體硅的表面性質(zhì)要求也越來(lái)越嚴(yán)格。而且電路的集成度日益提高,單元圖形的尺寸日益微化,污染物對(duì)器件的影響也愈加突出,以至于潔凈表面的制備已成為制作……
對(duì)拋光片清洗技術(shù)的研究
    目前在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中,普遍采用的清洗工藝是改進(jìn)的RCA清洗技術(shù),多年來(lái),人們對(duì)RCA清洗技術(shù)的清洗效果進(jìn)行了深入的研究,kern證明RCA工藝可在硅片的表面形成1~1.5nm的氧……
ULSI多層銅布線鉭阻擋層及其CMP拋光液的優(yōu)化
    由于鋁自身的性質(zhì),導(dǎo)致傳統(tǒng)的鋁布線工藝制作的器件經(jīng)常會(huì)因鋁的電遷移而失效,隨著ULSI特征尺寸的進(jìn)一步減小,布線層數(shù)增加、寬度也隨之變細(xì),這個(gè)問(wèn)題也變得更加突出。而銅的多層布線恰恰……
微制造光刻工藝中光刻膠性能的比較
    光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過(guò)改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被復(fù)制在圓片的表面[1]。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定……
硅片翹曲對(duì)光刻條寬均勻性的分析
    在集成電路制造中,光刻質(zhì)量的好壞是影響產(chǎn)品成品率的主要因素之一,條寬均勻性是衡量光刻質(zhì)量的兩大指標(biāo)之一。隨著集成電路特征尺寸的縮小,步進(jìn)光刻機(jī)在生產(chǎn)中得到了普遍的應(yīng)用,硅片的翹曲對(duì)……
GaN薄膜生長(zhǎng)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)的實(shí)現(xiàn)
    由于氮化鎵(GaN)材料在光電子及微電子領(lǐng)域有巨大的應(yīng)用前景,GaN基材料成為近年來(lái)世界各國(guó)競(jìng)相研究和開(kāi)發(fā)的新一代寬帶隙半導(dǎo)體材料。但由于缺乏大尺寸的GaN基體材料,所以只能在其他……
n型高阻硅單晶電阻率均勻性的控制
    高阻n型〈111〉硅單晶被廣泛用在功率器件方面。近年來(lái)許多功率器件廠家為提高成品率,對(duì)硅單晶的電阻率徑向均勻性提出了更為嚴(yán)格的要求。普遍要求n型〈111〉Φ100mm硅單晶片的電阻……
半導(dǎo)體晶圓制造中的設(shè)備效率和設(shè)備能力
    半導(dǎo)體工業(yè)極大依賴于半導(dǎo)體制造設(shè)備的投資,而且是同步增長(zhǎng)的。隨著設(shè)備的硅片尺寸大直徑化、設(shè)備的高精度化、自動(dòng)化,設(shè)備價(jià)格日益昂貴化,工藝線的設(shè)備總投資更是成倍地增長(zhǎng)。對(duì)工藝線來(lái)說(shuō),……
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