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[半導(dǎo)體材料制備人員]
有感知反應(yīng)的智能材料
更新時(shí)間:2007-05-28   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    20世紀(jì)90年代初,在美國(guó)弗吉尼亞理工學(xué)院和弗吉尼亞州立大學(xué)掛出了一個(gè)“智能材料研究中心”的牌子.科學(xué)家們正在研究各種辦法,試圖使飛機(jī)上的關(guān)鍵結(jié)構(gòu)具有自己的“神經(jīng)系統(tǒng)”、“肌肉”和“大腦”,使它們能感覺到即將出現(xiàn)的故障,并及時(shí)向飛行員發(fā)出警報(bào)。他們?cè)O(shè)想的辦法是……
  關(guān)鍵字:金屬 冶煉 軋制 職業(yè) 描述 半導(dǎo)體 材料 制備 硅粉 高純 氫氣 制取 硅心 高純水 多晶 三氯氫硅 
神通廣大的液晶
更新時(shí)間:2007-05-28   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    液晶問世較早。1888年,奧地利科學(xué)家F.•賴尼策爾就發(fā)現(xiàn)了這種奇特的物質(zhì)。……
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化學(xué)機(jī)械拋光中的硅片夾持技術(shù)
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    集成電路(IC)制造是電子信息產(chǎn)業(yè)的核心,是推動(dòng)國(guó)民經(jīng)濟(jì)和社會(huì)信息化發(fā)展最主要的高新技術(shù)之一。發(fā)達(dá)國(guó)家國(guó)民經(jīng)濟(jì)總產(chǎn)值增長(zhǎng)部分的65%與IC工業(yè)相關(guān),而全球90%以上的IC都要采用硅片。IC的發(fā)展遵循“Moore定律”,每隔3年芯片的集成度翻兩番,特征尺寸縮小1……
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米CMOS器件中超淺結(jié)離子摻雜新技術(shù)
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    近幾年來,IC芯片設(shè)計(jì)、芯片制造、測(cè)試和封裝技術(shù)都取得了長(zhǎng)足的進(jìn)展,整個(gè)產(chǎn)業(yè)鏈的各個(gè)環(huán)節(jié)都在配套發(fā)展。“中國(guó)芯”與“外國(guó)芯”制造水平的差距正在縮短。盡管芯片特征尺寸0.25~0.18mm的CMOS 工藝仍是當(dāng)前制備IC的主流技術(shù),但0.13mm技術(shù)已開始進(jìn)入生……
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重?fù)焦枰r底材料中氧沉淀研究進(jìn)展
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    器件性能的提高,需要器件工藝的改善,另外還要有基礎(chǔ)材料質(zhì)量的保證。材料的發(fā)展更能促進(jìn)器件發(fā)展的飛躍,而材料的性能又取決于其內(nèi)部結(jié)構(gòu)。半導(dǎo)體硅材料以豐富的資源、優(yōu)質(zhì)的特性、日臻完善的工藝以及廣泛的用途等綜合優(yōu)勢(shì)而成為當(dāng)代電子工業(yè)中應(yīng)用最多的半導(dǎo)體材料。 ……
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半導(dǎo)體硅片金屬微觀污染機(jī)理研究進(jìn)展
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    隨著ULSI技術(shù)的不斷向前發(fā)展,對(duì)半導(dǎo)體硅的表面性質(zhì)要求也越來越嚴(yán)格。而且電路的集成度日益提高,單元圖形的尺寸日益微化,污染物對(duì)器件的影響也愈加突出,以至于潔凈表面的制備已成為制作64M和256Mbyte DRAM的關(guān)鍵技術(shù)[1,2]。此外有超過50%成品損失……
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對(duì)拋光片清洗技術(shù)的研究
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    目前在半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)中,普遍采用的清洗工藝是改進(jìn)的RCA清洗技術(shù),多年來,人們對(duì)RCA清洗技術(shù)的清洗效果進(jìn)行了深入的研究,kern證明RCA工藝可在硅片的表面形成1~1.5nm的氧化硅鈍化膜[1],okumura觀察到標(biāo)準(zhǔn)的RCA清洗對(duì)硅片表面有較嚴(yán)重的粗糙化……
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ULSI多層銅布線鉭阻擋層及其CMP拋光液的優(yōu)化
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    由于鋁自身的性質(zhì),導(dǎo)致傳統(tǒng)的鋁布線工藝制作的器件經(jīng)常會(huì)因鋁的電遷移而失效,隨著ULSI特征尺寸的進(jìn)一步減小,布線層數(shù)增加、寬度也隨之變細(xì),這個(gè)問題也變得更加突出。而銅的多層布線恰恰能避免這一問題的出現(xiàn),因此在深亞微米工藝中(0.18μm及以下),銅將逐步代替鋁……
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微制造光刻工藝中光刻膠性能的比較
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    光刻加工工藝中為了圖形轉(zhuǎn)移,輻照必須作用在光刻膠上,通過改變光刻膠材料的性質(zhì),使得在完成光刻工藝后,光刻版圖形被復(fù)制在圓片的表面[1]。而加工前,如何選用光刻膠在很大程度上已經(jīng)決定了光刻的精度。盡管正性膠的分辨力是最好的,但實(shí)際應(yīng)用中由于加工類型、加工要求、加……
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硅片翹曲對(duì)光刻條寬均勻性的分析
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    在集成電路制造中,光刻質(zhì)量的好壞是影響產(chǎn)品成品率的主要因素之一,條寬均勻性是衡量光刻質(zhì)量的兩大指標(biāo)之一。隨著集成電路特征尺寸的縮小,步進(jìn)光刻機(jī)在生產(chǎn)中得到了普遍的應(yīng)用,硅片的翹曲對(duì)條寬均勻性的影響不容忽視。……
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GaN薄膜生長(zhǎng)實(shí)時(shí)監(jiān)控系統(tǒng)的實(shí)現(xiàn)
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    由于氮化鎵(GaN)材料在光電子及微電子領(lǐng)域有巨大的應(yīng)用前景,GaN基材料成為近年來世界各國(guó)競(jìng)相研究和開發(fā)的新一代寬帶隙半導(dǎo)體材料。但由于缺乏大尺寸的GaN基體材料,所以只能在其他襯底上進(jìn)行異質(zhì)外延生長(zhǎng)。在各種生長(zhǎng)技術(shù)中,金屬有機(jī)化學(xué)汽相沉積(MOCVD)已經(jīng)……
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n型高阻硅單晶電阻率均勻性的控制
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    高阻n型〈111〉硅單晶被廣泛用在功率器件方面。近年來許多功率器件廠家為提高成品率,對(duì)硅單晶的電阻率徑向均勻性提出了更為嚴(yán)格的要求。普遍要求n型〈111〉Φ100mm硅單晶片的電阻率不均勻性小于15%,有的單位甚至要求小于10%。n〈111〉晶向硅單晶生長(zhǎng)過程……
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半導(dǎo)體晶圓制造中的設(shè)備效率和設(shè)備能力
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    半導(dǎo)體工業(yè)極大依賴于半導(dǎo)體制造設(shè)備的投資,而且是同步增長(zhǎng)的。隨著設(shè)備的硅片尺寸大直徑化、設(shè)備的高精度化、自動(dòng)化,設(shè)備價(jià)格日益昂貴化,工藝線的設(shè)備總投資更是成倍地增長(zhǎng)。對(duì)工藝線來說,在設(shè)備投資加大的同時(shí),設(shè)備折舊的負(fù)擔(dān)也加大,設(shè)備折舊與維修占硅片加工總成本的最大……
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納米晶存儲(chǔ)特性的研究
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    在室溫下工作的Si納米晶MOSFET存儲(chǔ)器件有體積小、低能耗、高劑量、快速擦寫和可多次循環(huán)使用的特點(diǎn),在未來的超大規(guī)模集成電路中有著重要的應(yīng)用前景。這種存儲(chǔ)器件可在約3V的低壓下工作,Si劑量可達(dá)到1012/cm2以上,讀寫時(shí)間達(dá)到ns量級(jí),循環(huán)擦寫次數(shù)可達(dá)1……
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鈷鎳與多晶鍺硅的固相反應(yīng)和肖特基接觸特性
更新時(shí)間:2007-05-23   來源:中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)
    近年來,多晶鍺硅(poly-Si1-xGex)及其器件的研究引起了較多關(guān)注。在集成電路某些應(yīng)用中,它有可能是比多晶硅更好的選擇 [1-7]。高摻雜poly-Si1-xGex具有可變的功函數(shù),用作亞微米MOS晶體管的柵極,能同時(shí)實(shí)現(xiàn)PMOS和NMOS表面溝道器件……
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