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[關(guān)鍵字含有 CMP 的文章]

1.ULSI多層銅布線鉭阻擋層及其CMP拋光液的優(yōu)化

更新時間：2007年5月23日來源：中華職工學(xué)習(xí)網(wǎng)

由于鋁自身的性質(zhì)，導(dǎo)致傳統(tǒng)的鋁布線工藝制作的器件經(jīng)常會因鋁的電遷移而失效，隨著ULSI特征尺寸的進(jìn)一步減小，布線層數(shù)增加、寬度也隨之變細(xì)，這個問題也變得更加突出。而銅的多層布線恰恰能避免這一問題的出現(xiàn)，因此在深亞微米工藝中（0.18μm及以下），銅將逐步代替鋁成為硅片上多層布線的材料。現(xiàn)在，已被普遍承認(rèn)的是，對于最小特征尺寸在0.35μm及以下的器件，必須進(jìn)行全局平面化，而化學(xué)機(jī)械拋光（CMP）是最好的也是唯一的全局平面化技術(shù)。 [詳情……]

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